跟着年代的不断改动开展，众多以科技为布景的工业由此兴起，在改动传统生活方式的一起，也对国家和社会的开展起到了活跃的促进作用。尤其是在通讯范畴，作为我国通讯巨子华为，更是在第五代通讯技能范畴完成了拐弯超车，成功跻身到国际一线前沿。

　　实际上，现在包含互联网职业和通讯范畴，我国的科技企业都现已成功完成了拐弯超车。但是在要害的零部件方面，我国科技企业仍旧需求依托外国进口，其间芯片便是最为典型的比如。有碍于芯片技能所存在的技能短板，使得我国在进口芯片之际，不只没有议价权，一起还会面临着卡脖子的境遇。而中兴和华为工作的产生不就正好说明晰芯片技能受限于人的坏处？

　　通常情况下，芯片制作包含两个方面，一方面在于芯片规划，另一方面则是芯片制作。芯片规划方面，包含华为海思在内的我国科技企业都现已完成了技能打破。但是在芯片制作范畴，我国科技企业仍旧受限于人。而从本质上进行剖析，芯片制作落后的原因在于光刻机技能的落后。

　　咱们都知道，芯片只要光刻机的存在才干将其从图纸演出变成实在存在。纵观现在光刻机制作水平，首要是以14nm工艺为主，最先进的则是荷兰ASML公司所出产的7nm工艺光刻机。至于9nm工艺技能光刻机首要把握在日本人和德国人手中。因为荷兰ASML公司约束对我国科技企业出口光刻机，因此在缺少光刻机技能的情况下，将会在必定程度上约束到我国电子工业的开展。

　　所以在认识到了工作的严重性后，我国也在光刻机范畴投入了很多的人力和物力。但制程工艺仅限于28nm和14nm，与7nm工艺仍旧还有着很大的距离。不过在近期，我国芯片传来大好音讯！国产光刻机弯道超车，打破9nm技能瓶颈。

　　依据媒体在日前的报导，由武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，现在现已成功研宣布9nm工艺的光刻机。此次所研宣布的光刻机技能与西方国家不同的是，国产光刻机使用二束激光在自研的光刻机上打破了光束衍射极限的约束，刻出了最小9nm线宽的线段，而这也是咱们独有的技能，一起也用着自主产权。

　　不过，因为现在9nm光刻机技能还仅限于实验阶段，与7nm工艺制程还有着必定的距离，即便是在无法逾越荷兰ASML的情况下，也能与日本和德国的光刻机技能一较高下。所以，作为国人的咱们也有理由信任，在未来的时间段中，9nm光刻机必定会走出实验室，完成真实的量产。