原标题：ASML研制新一代光刻机，国产还在14nm徜徉，ASML现已在研制2nm

　　依据官方发表的数据，在产能方面，新一代EUV光刻机较老机型进步近20%，精度进步30%！这意味着新一代EUV光刻机比旧一代更高端。ASML不愧为世界领先的光刻技能巨子。

　　音讯一出来，人们不由感到唏嘘。国产还在14nm徜徉。ASML现已在2nm研制中，甚至在光刻机的规划中完成了“简化”。其史无前例的精度使得芯片上的元件尺度在未来几年内持续缩小。

　　新一代极紫外光刻机大约有一辆公共汽车那么大，耗资1.5亿美元。整机包括10万个零件和2公里长的电缆。每台机器发货需求40个集装箱、3艘货船或20辆货车。只需像台积电、三星和英特尔等少量几家公司能买得起这样的机器。

　　在坐落美国康涅狄格州市郊的一个大型洁净室里，工程师们现已开端为一台机器制作要害部件。工程师们将一大块铝雕刻成一个结构，终究让引擎盖以纳米精度移动，以反射极点紫外线。这些光束被几个反射镜来回反射，以惊人的精度重复修正和抛光，并在硅片上蚀刻出只需几十个原子巨细的特征图画。这台机器有望使芯片制作业在至少10年内遵从摩尔定律。

　　制作的组件将于2021年末运至荷兰维荷芬，然后于2022年头安装在新一代极紫外光刻机的第一台原型中。英特尔可能会运用这台新机器制作第一批芯片。英特尔表明，估计将在2023年推出第一批芯片。与曾经的任何机器比较，芯片的图画尺度更小，每个芯片都有数百亿个组件。未来几年，这台机器出产的芯片应该是历史上最快、最高效的。

　　阿斯麦正在康涅狄格州威尔顿制作下一代极紫外光刻机的一些部件。它选用新技能将紫外波长最小化，然后尽可能减小芯片组件的尺度，终究进步整个芯片的功能。总归，阿斯麦的新一代极紫外光刻机有望连续芯片制作理念和整个技能职业的不断进步，持续让摩尔定律坚持生机。

　　在半导体职业，要想在芯片范畴占据主动，不只需战胜各种核心技能，还要得到一些要害设备的支撑。不然，即便咱们有技能，也仅仅坐而论道。看看这么多半导体器材，最重要的是光刻机。没有它，芯片制作进程就无法顺利完成。

　　望文生义，光刻机的首要功能是对晶圆进行光刻，这恰好是芯片制作进程中最要害的一步。光刻的精度决议了芯片的先进程度。换句话说，光刻机也有精度。为了出产满足先进的芯片，如7nm和5nm，需求更高端的光刻机。

　　到目前为止，世界上最高端的光刻时机集在一家公司，来自荷兰的ASML。尽管它地点的国家仅仅一个欧洲小国，但这家制作商集成了整个欧洲和美国的尖端技能，不然它也无法出产首要芯片铸造厂所需的高端光刻机。

　　惋惜的是ASML的EUV光刻机遥不行及。即便想出口，也要考虑美国的情绪。但是，依据最新音讯，ASML的EUV光刻机可能会迎来向国内市场出口的可能性，由于其新一代EUV光刻机现已诞生，而之前的一代现已成为旧的。

　　ASML的新产品也让咱们感到危机。在咱们有时机打破之前，咱们需求在这些高端职业投入更多的人才。尽管自主研制科技的路途还有很长的路要走，但只需咱们咬定青山不放松，咱们就能看到期望！回来搜狐，检查更多