作为半导体集成电路产业的发源地，美国曾经掌握了大量的芯片半导体技术，在芯片制造、半导体设备以及芯片封测等领域都拥有着出色的影响力。可是如今，美国虽然依然掌握着大量的芯片技术，同时拿下了全球芯片市场近半的营收，在芯片设计方面依然表现出色，可是芯片制造产业的先进制程已经被台积电、三星等厂商主导，光刻机设备尤其是EUV光刻机设备则是只有荷兰的ASML可以生产。

　　为了重振本土的芯片制造产业，美国甚至拿出了520亿美元的补贴，想要推动本土先进芯片制造产业链的发展。英特尔也重启了芯片代工业务，不断“加注”先进制程。可是显而易见的是，美国在芯片制造和半导体设备领域正在失去影响力。就在4月12日的时候，彭博社发布了一篇名为《美国曾有机会引领芯片制造，但却错过了》的文章，其中反思了美国在芯片制造领域出现的问题。

　　从这篇文章来看，彭博社认为之所以会出现这种情况，最主要的原因在于EUV光刻机。不仅起初很少有行业内的美国高管认可EUV光刻机的可行性，同时英特尔作为曾经最大的芯片制造厂商在EUV光刻机方面尝试了误判。

　　这篇文章主要从美芯企业们组建EUV联盟，抛开了日本设备厂商尼康、佳能等，选择与ASML进行合作以及英特尔对于EUV光刻机发生了误判，导致在新进制程方面开始落后于台积电等厂商。

　　从这篇文章当中揭露的EUV光刻机以及先进制程芯片产业发展的情况来看，美国确实有机会在EUV光刻机制造先进芯片时代继续占据优势。最主要的原因在于EUV光源也就是极紫外线光源技术本质上来说是美国的一些实验室最早开始研发的，之后ASML使用的极紫外线光源技术也是多家美芯企业参与，组建EUV联盟研发出来的。

　　可是，当时美国芯片半导体产业内的行业高管却对这一项技术并不认可，最主要的原因在于EUV光刻机对于物镜的要求极高，当时的技术很难制造出来。不过从后来的发展情况来看，在2018年的时候ASML就开始大量出货EUV光刻机。

　　在这个时候英特尔对于ASML的影响力依然不小，其掌握了不少ASML的股票，从当时的数据来看，台积电、三星以及英特尔持有ASML的股票占比达到了25%左右。其中英特尔投资了41亿美元，超过了台积电和三星。

　　按理来说，英特尔很有机会拿到第一台EUV光刻机，就像前不久ASML出货的最新光刻机设备NA EUV光刻机就是被英特尔拿到了。可是英特尔却并没有选择这么做，当时英特尔的首席执行官认为这种设备带来的经济效应并不确定，同时认为英特尔在先进制程方面一直领域，并不需要担心被超越。

　　后来的事情就很明显了，台积电和三星凭借着拿到的大量EUV光刻机技术，不断开始推动先进制程技术的发展，英特尔的芯片制造则主要服务自己的芯片生产，之后甚至将部分芯片代工交给了台积电。

　　这一系列的原因不仅导致英特尔的市值增长没有台积电、英伟达等厂商那么迅速，之间的差距被不断缩短甚至被反超，也同时导致了英特尔乃至是美国的芯片制造产业开始落后。