在当下这样的年代中，跟着科技的不断发展人们研讨的范畴早就现已从微观走到了微观，而也正因为现在电子年代的前进，芯片技能也就成为了在技能中需求打破的要点难关。而我国其实在半导体芯片的制作上一向都是处于一个没有重大打破的方位。

　　不过现在有一个好消息，那就是2纳米芯片迎来曙光！我国的中科院现已打破了2纳米级芯片的关键技能，而且仍是由咱们自主研制的，成了国际创始，还获得了十分多的专利。而这也为我国芯片的这一范畴打下了一个杰出的根底，然后成为国际上第一个具有2纳米芯片的国家。

　　但咱们国家在这一方面的上的研讨并不是一向都十分顺畅的，在之前咱们与荷兰一家光刻机公司进行协作，可是却没有在7纳米芯片上获得较好的成果，而在2018年年末还因为一些原因暂缓。这使咱们遇到了十分大的妨碍，一向没有起步，不过现在令人快乐的是，听说中科院所研讨的二纳米级芯片在2024年就可以投入生产。

　　而且依据其他数据显现，咱们国家其他的纳米芯片也会投入量产，其间的14纳米芯片的第一条生产线现已在上海投入使用，各方面有着十分大的起色，而随之咱们与其他国家的这一方面协作上也大有起色，咱们都有着显着共赢的形势。

　　不过快乐之余，还需求认清的是，咱们国家尽管把握了这一类芯片的关键技能，可是却并不可以制作出有这样精度的光刻机，想要真实的成功依然还有着十分长的一段路需求走。

　　不过好在当时咱们与荷兰的光刻机公司有着十分亲近的协作，而且他们现已在上个世纪末就开端了对EVU光刻机的研制，现在也是处于一个十分凶猛的方位，就连美国都比不上。

　　而他们的协作无疑所以给了咱们十分大的协助，那当然咱们国家自己也在尽力的对光刻机试着进行更深一步的打破，期望有一天咱们真的可以做到在这一方面的研制上做到自给自足，成为芯片工业的先端国家。